真空流动气氛烤胶机 精密加热处理的新利器

随着微电子、半导体和生物芯片等高精度制造产业的快速发展，材料表面的加工与烘干环节面临着更加严苛的工艺要求。特别是在光刻胶（Photoresist）处理那一道工序中，“加热”的关键性往往被刻不容缓地提及。此时，一台升温控制精细并能精确构造气氛环境的真空流动气氛烤胶机，成为了许多研发中心和制程领域的首选方案。传统常压烘烤受到氧气、水分以及热分布过高的客观影响，容易出现厚度不均、反拍难度加大等难题；然而辅助利用真空系统稳定的多段特性，以及模块前、沿区域的流...